Plasma Asher等離子去膠機

NPC-3500(A)研發(fā)用等離子去膠機概述：NANO-MASTER 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。

NPC-3500(A)研發(fā)用等離子去膠機產(chǎn)品特點

• 緊湊型立式系統(tǒng)
• 自動上下載片
• 帶Load Lock
• 不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
• 兼容100級超凈間使用
• 淋浴頭、ICP或微波等離子源
• 旋轉(zhuǎn)樣品臺
• RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺
• 全自動或手動RF調(diào)諧
• z多可支持5個MFC帶電拋光的氣體管路
• PC計算機控制的氣動閥
• 帶密碼保護(hù)的多級訪問控制
• 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
• 機械泵的壓力可達(dá)到10mTorr
• 250 l/s的渦輪分子泵
• 極限真空為5x10-7Torr
• 完整的安全聯(lián)鎖

研發(fā)用等離子去膠機應(yīng)用：

• 有機物以及無機物的殘留物去除
• 光刻膠剝離或灰化
• 去殘膠以及內(nèi)腐蝕(深腐蝕)應(yīng)用
• 清洗微電子元件，電路板上的鉆孔或銅線框架
• 提高黏附性，消除鍵合問題
• 塑料的表面改型：O2處理以改進(jìn)涂覆性能
• 產(chǎn)生親水或疏水表面